專利申請是獲得專利權的必須程序 。專利權的獲得，要由申請人向國家專利機關提出申請，經國家專利機關批準并頒發證書 。申請人在向國家專利機關提出專利申請時，還應提交一系列的申請文件，如請求書、說明書、摘要和權利要求書等等 。根據具體情況，策劃專利布局方案一般包含如下幾個步驟：
第一步，找出關鍵技術部位
在專利分析的基礎上，根據發明目的、技術手段和技術效果對特定技術領域的專利進行深層剖析，挑選出相關專利 ， 做成專利摘要表，然后依據各相關專利之發明點與技術效果，制成鳥瞰圖或矩陣圖等圖表 。在此基礎上，找出擬研發課題最關鍵、最核心的技術部位之所在 。企業進行任何投入都會從成本與收益上進行權衡，鋪天蓋地般的地毯式布局對許多企業來說往往是不切實際的，因此，首先找出關鍵技術部位對專利布局策劃十分重要 。
第二步，找出關鍵彈著區
在找出關鍵技術部位后，就需要根據擬定研發課題最關鍵與最核心的技術部位找出專利彈著區 。建立在關鍵彈著區基礎上的專利布局，有利于集中火力打在關鍵技術部位上，獲得核心專利，甚至形成基礎專利或路障型專利 。彈著區的多項關聯專利之組合 ， 容易形成牢不可破的專利網 ， 以此為基礎也容易形成各種專利布局 。
【策劃專利布局方案有哪些步驟】例如，日本企業通過專利壟斷光學變焦鏡頭市場已長達數十年，它們彼此進行交叉許可，從而讓其他國家的競爭者毫無插足之地，其策略就是找到光學儀器最核心的彈著區，在最核心的技術部位建立稠密的專利網，使得競爭者只好知難而退 。然而，最早取得光學變焦鏡頭專利的并不是日本人，而是美國人 ， 后來德國和法國的企業也涉足過該領域，但他們卻沒有像日本人那樣采用集中火力的專利布局策略，從而也就沒能獲得全面壟斷的地位 。
第三步，草擬布局方案
在找出關鍵彈著區后，接下來就要依據企業研發能力和企業經營策略與經營狀況，選擇合適的專利布局模式，并草擬初步布局方案 。草擬布局方案前，必須首先衡量企業的研發能力 。我國企業多數屬于技術追隨型企業，在核心技術研發和專利布局上往往不能與國外競爭者分庭抗禮，因此，在找到關鍵彈著區后，還必須根據企業研發能力 ， 評估是否有機會在關鍵彈著區有所作為 。如不然，則應當尋找其他關鍵且企業有能力作為的次彈著區 ， 以迂回戰術，取得與強大競爭者對話與抗衡的機會 。
例如 ， 在手機產品上 ， 通信協議標準和芯片等核心技術可能被國外企業所擁有 ， 但手機的外觀設計卻是既較為關鍵又是很多企業有能力研發的，可以將其作為次彈著區，搶攻這方面的專利，從而進行專利布局 。
第四步，確定布局方案
獲得草擬布局方案后，應在分析規避可能性的基礎上，對草擬的布局方案進行細致分析和修改調整，從而確定最終的布局方案 。競爭者為繞開專利，常常會想盡辦法進行規避設計，因此在有能力獲得核心技術專利的前提下進行專利布局時，必須盡量找出可能被規避設計的缺口，找出封堵各缺口的辦法和方案，由此封堵住競爭者進行規避設計的后路，消除后顧之憂 。當然，封堵規避設計之后路，不一定都要采用申請專利的方式，若某種規避設計方案沒有任何商業利用的價值，競爭者也不會采用，就沒有必要耗財耗力地申請專利 。
